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    研磨拋光機Saphir 560

    研磨拋光機Saphir 560

    Saphir 560(Rubin 520)是新一代等徑雙盤磨拋機,它采用創新的磨拋頭,工作盤直徑為200-300 mm。

    Saphir 560Rubin 520)是新一代等徑雙盤磨拋機,它采用創新的磨拋頭,工作盤直徑為200-300 mm。

     

    Rubin 520磨拋頭配備了一個自動防護罩,為安全操作設定了新 標準。單點力和中心力加載、程序存儲、集成的自動 加液系統及材料磨削量精確控制只是其部分功能。

     

    帶氣動夾持的電動高度設置功能,結合主機的所有其他特征,saphir 550滿 足最高的制樣需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度預設,并在制樣過程中全自動測量。在達到預設值時,制樣過程會自動停止。

     

    優點

    帶有Rubin520的雙盤研磨/拋光裝置

    單點力和中心力控制

    磨盤速度和動力頭速度可調

    觸摸屏式的電子控制

    可儲存程序

    動力頭可順時針/逆時針旋轉

    高度和側向位置記憶功能

    工作盤

    ? 200-300 mm

    樣品數量(單點)

    1-6 samples ? 50 mm

    單點加載壓力

    5-100 N

    中心加載壓力

    基于夾持器

    連接電源

    5.5 kVA

    運行功率(基礎)

    2x 0.75 kW S6/40%

    運行功率(研磨控制頭部分)

    0.17 kW S1

    轉速(磨拋機)

    50 - 600 rpm

    轉速(研磨控制頭部分)

    30 -150 rpm

    x x

    1020 x 550 - 650 x 660 mm

    重量

    ~ 110 kg

    水壓

    1x 進水 R?" 最大 6 bars



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